Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C

Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterización en el cátodo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rápidas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

Bibliografski detalji
Glavni autori:	Rojas Sanchéz, César Enrique, Sarmiento Santos, Armando, Vera López, Enrique
Format:	Online
Jezik:	spa
Izdano:	Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia 2013
Online pristup:	https://revistas.uptc.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/2218

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