Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterización en el cátodo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rápidas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
| Main Authors: | , , |
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| פורמט: | Online |
| שפה: | spa |
| יצא לאור: |
Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia
2013
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| גישה מקוונת: | https://revistas.uptc.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/2218 |
