Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C

Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterización en el cátodo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rápidas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

書誌詳細
主要な著者:	Rojas Sanchéz, César Enrique, Sarmiento Santos, Armando, Vera López, Enrique
フォーマット:	Online
言語:	spa
出版事項:	Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia 2013
オンライン･アクセス:	https://revistas.uptc.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/2218

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