Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterización en el cátodo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rápidas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

Ամբողջական նկարագրություն

Մատենագիտական մանրամասներ

Հիմնական հեղինակներ:	Rojas Sanchéz, César Enrique, Sarmiento Santos, Armando, Vera López, Enrique
Ձևաչափ:	Online
Լեզու:	spa
Հրապարակվել է:	Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia 2013
Առցանց հասանելիություն:	https://revistas.uptc.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/2218