Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C
Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterización en el cátodo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rápidas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...
| Үндсэн зохиолчид: | , , |
|---|---|
| Формат: | Online |
| Хэл сонгох: | spa |
| Хэвлэсэн: |
Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia
2013
|
| Онлайн хандалт: | https://revistas.uptc.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/2218 |
