Síntesis de materiales de NiO soportados sobre hidrotalcita MgAl para la reducción fotocatalítica de 4-Nitrofenol empleando irradiación UV
Spa: En la actualidad los nitrofenoles son considerados como residuos altamente peligrosos, debido a su alta toxicidad y resistencia a los procesos de bioreducción. Específicamente, el 4-nitrofenol (4-NF) procedente del uso de pesticidas, herbicidas y colorantes sintéticos es uno de los compuestos o...
| 主要な著者: | , , |
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| フォーマット: | Documento de Conferencia |
| 言語: | spa |
| 出版事項: |
2021
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| オンライン･アクセス: | http://repositorio.uptc.edu.co/handle/001/5648 |
| 要約: | Spa: En la actualidad los nitrofenoles son considerados como residuos altamente peligrosos, debido a su alta toxicidad y resistencia a los procesos de bioreducción. Específicamente, el 4-nitrofenol (4-NF) procedente del uso de pesticidas, herbicidas y colorantes sintéticos es uno de los compuestos orgánicos más comunes presentes en los sistemas acuáticos. La peligrosidad de 4-NF se debe principalmente a su alta estabilidad y solubilidad. Por tal motivo, procesos como la reducción fotocatalítica han demostrado ser activos y eficientes en el tratamiento de compuestos recalcitrantes como 4-nitrofenol. |
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