| Summary: | Spa: El cobre ha sido uno de los metales más utilizados por el hombre en numerosas aplicaciones, como en la microelectrónica [1]. Cuando una superficie de cobre metálico entra en contacto con una atmósfera oxidante, dependiendo de las condiciones termodinámicas de la interacción, se pueden formar sus respectivos óxidos (CuO y Cu2O), los cuales debido a sus propiedades físicas, ópticas y eléctricas les otorga importantes aplicaciones científicas y tecnológicas muy especiales que contribuyen al desarrollo humano permitiendo la aplicación de nuevas y avanzadas tecnologías para la generación de energía limpia [2], tratamiento de contaminantes [3] y el mejoramiento de los desarrollos en electrónica [4]. Una de las últimas utilidades de gran importancia del óxido de cobre es permitir el crecimiento de patrones de nanofibras de grafeno y permitir la deposición del grafeno sobre superficies de cobre desacopladas de ella [5]. Hay varios métodos para producir óxidos de cobre, uno de los métodos el cual se desarrollará en el presente trabajo es sometiendo superficies de cobre a atmósferas oxidantes en una descarga luminiscente anormal de baja presión (DLA). En el proceso de oxidación del cobre se utilizará un reactor para generar una DLA con una atmósfera oxidante (aire-H2), estableciéndose los parámetros de flujo, presión y voltaje adecuados para fijar las temperaturas de oxidación (500°C a 900°C). Se evaluará la incidencia de la temperatura en la formación de óxidos en la superficie de cobre y se estudiará el comportamiento de la atmósfera oxidante a una temperatura fija variando presión y flujo de gas. El análisis microestructural de los depósitos de óxido sobre el sustrato de cobre será llevado a cabo mediante microscopía óptica y/o SEM y, mediante difracción de rayos X (DRX) se analizará la estructura cristalina del óxido depositado sobre la superficie del cobre en la DLA.
|
|---|
