Formación de óxidos en la superficie de cobre en una descarga luminiscente anormal - Sanabria Montaña, Rolfe; Sarmiento Santos, Armando (2021)
Spa: El cobre ha sido uno de los metales más utilizados por el hombre en numerosas aplicaciones, como en la microelectrónica [1]. Cuando una superﬁcie de cobre metálico entra en contacto con una atmósfera oxidante, dependiendo de las condiciones termodinámicas de la interacción, se pueden formar sus respectivos óxidos (CuO y Cu2O), los cuales debido a sus propiedades físicas, ópticas y eléctricas les otorga importantes aplicaciones cientíﬁcas y tecnológicas muy especiales que contribuyen al desarrollo humano permitiendo la aplicación de nuevas y avanzadas tecnologías para la generación de energía limpia [2], tratamiento de contaminantes [3] y el mejoramiento de los desarrollos en electrónica [4]. Una de las últimas utilidades de gran importancia del óxido de cobre es permitir el crecimiento de patrones de nanoﬁbras de grafeno y permitir la deposición del grafeno sobre superﬁcies de cobre desacopladas de ella [5]. Hay varios métodos para producir óxidos de cobre, uno de los métodos el cual se desarrollará en el presente trabajo es sometiendo superﬁcies de cobre a atmósferas oxidantes en una descarga luminiscente anormal de baja presión (DLA). En el proceso de oxidación del cobre se utilizará un reactor para generar una DLA con una atmósfera oxidante (aire-H2), estableciéndose los parámetros de ﬂujo, presión y voltaje adecuados para ﬁjar las temperaturas de oxidación (500°C a 900°C). Se evaluará la incidencia de la temperatura en la formación de óxidos en la superﬁcie de cobre y se estudiará el comportamiento de la atmósfera oxidante a una temperatura ﬁja variando presión y ﬂujo de gas. El análisis microestructural de los depósitos de óxido sobre el sustrato de cobre será llevado a cabo mediante microscopía óptica y/o SEM y, mediante difracción de rayos X (DRX) se analizará la estructura cristalina del óxido depositado sobre la superﬁcie del cobre en la DLA.