Producción de Películas Delgadas de TiO2 utilizando la Técnica Magnetrón Sputtering R.F. - Angarita, Guillermo; Arroyave Franco, Mauricio; Montoya, Isabel; Palacio, Claudia (2021)
Spa: Se depositaron películas delgadas de Dióxido de Titanio (TiO2) sobre obleas de Silicio tipo p (100) y discos de acero inoxidable 304 mediante la técnica de Magnetrón Sputtering R.F. Para el proceso de deposición se utilizó un blanco de TiO2 de 99.9% de pureza y Argón 99.999% puro, el tiempo de proceso fue de 2 horas y se utilizó una potencia R.F. de 100W, se produjeron 3 grupos de muestras, modificando el bias en el substrato a 0, -50 y -100 V D.C., los demás parámetros se dejaron constantes. Los sustratos fueron caracterizados utilizando AFM y SEM con el fin de comparar las propiedades de estos antes y después de depositar los recubrimientos; estos también fueron caracterizados por XRD y EDS. Los espesores de las películas depositadas estuvieron entre 79 nm y 83 nm, por lo cual se considera que el efecto que tuvo la variación de bias sobre este parámetro fue poco apreciable. Los resultados obtenidos en los análisis EDS de los recubrimientos de TiO2 sobre sustratos de silicio confirman la presencia de Titanio, Oxígeno y Silicio; de igual manera los análisis de DRX indican presencia de fases cristalinas de TiO2, SiO2 y Si; la estructura de los patrones XRD sugirió la presencia de fases cristalinas nanoestructuradas, lo que se confirmó con los análisis AFM y SEM de alta resolución, ya que por ambas técnicas se observaron granos de menos de 100 nm de tamaño. El efecto de las variaciones en bias realizadas sobre el tamaño de grano tampoco fue apreciable.