| Summary: | Spa: Se fabricaron recubrimientos nanoporosos por el método de dip coating sobre sustratos de silicio (100). Luego de la deposición, las muestras fueron sometidas a un proceso de recocido en el que los sustratos se secaron inicialmente a 120°C, para a continuación seguir el recocido a una tasa lenta hasta alcanzar los 400°C, temperatura a la que se hizo un recocido final durante varias horas. Luego del proceso de recocido las muestras se enfriaron a una tasa lenta hasta alcanzar la temperatura ambiente. Se obtuvieron muestras de una, cuatro y siete capas, las cuales fueron caracterizadas por medio de difracción de rayos X a bajos ángulos, lo que nos permitió analizar específicamente la superficie del material, obteniéndose picos en (1,36±0,06)° y (2,97±0,09)° para el rango de velocidades de extracción estudiado (de 2mm/s a 4mm/s). Además, para las muestras de una sola capa, se encontró que a medida que aumenta el tiempo entre la preparación del sol y la producción del recubrimiento, la intensidad del pico ubicado en 1,36° aumenta en comparación con la del pico ubicado en 2,97°. Las muestras también fueron analizadas por microscopía electrónica de transmisión (TEM) para obtener información de los recubrimientos nanoporosos.
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